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         1.完善先進的研發手段
         公司研發中心擁有先進的硬件設備及各種專業軟件,為公司產品研發、設計創造了良好的條件;并且開展芯片的版圖設計,縱向結構設計,對制造工藝參數進行計算機模擬;同時與公司現有工藝生產線緊密配合,使新的設計迅速通過工藝生產線得到驗證,從而進一步改進和優化設計。

        2.引進先進的工藝裝備
         公司擁有從奧地利微系統公司(AMS公司)及日本NEC引進的完整的MOS工藝生產線,其中步進光刻機為日本尼康公司的NSR-2005i10C,適用0.45微米線寬的大規模集成電路光刻;離子注入機為美國伊頓公司的GSD200(注入功率200KeV),GSD-HE(注入功率1MeV),是到目前為止世界上最先進的微電子專用設備之一,CVD設備為現今最主流的美國應用材料公司(AMAT)的P5000設備。生產線完整地配備了各種檢測設備儀器,包括HITACHI的S-8820掃描電子顯微鏡、NANOMETRIX的UV216S/OS2表面狀態分析儀、IVS的IVS120關鍵尺寸檢測儀等非常先進昂貴的檢測儀器。



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